A Microsoft investiu US$ 40 milhões na startup norueguesa Lace, que desenvolve uma tecnologia inovadora para fabricar chips em escala atômica. A técnica usa feixes de átomos de hélio para criar circuitos até dez vezes menores que os produzidos com métodos tradicionais.
Com resolução quase atômica, a tecnologia da Lace pode aumentar o desempenho dos processadores, especialmente para aplicações de inteligência artificial. A empresa planeja uma unidade piloto até 2029 para testes de protótipos já produzidos.
Essa inovação representa um avanço promissor para a miniaturização dos semicondutores, oferecendo uma alternativa à litografia convencional. O projeto pode redefinir os limites da indústria de chips, com impactos significativos no desenvolvimento tecnológico futuro.
A Lace, startup norueguesa apoiada pela Microsoft, recebeu US$ 40 milhões para desenvolver uma nova tecnologia de litografia capaz de criar chips com uma escala muito menor que o atual. O diferencial está no uso de um feixe de átomos de hélio, ao invés da luz tradicional, o que permite desenhar circuitos dez vezes menores.
O processo tradicional de produção de chips de semicondutores utiliza luz para gravar padrões em wafers, uma técnica dominada pela empresa holandesa ASML. A Lace promete um avanço significativo ao usar um feixe com largura aproximada a um átomo de hidrogênio, cerca de 0,1 nanômetro, enquanto as ferramentas atuais operam com feixes de 13,5 nanômetros.
Isso representa um salto em precisão, possibilitando a construção de transistores e estruturas em uma resolução considerada quase atômica. O tamanho reduzido dos elementos pode aumentar o desempenho dos chips, especialmente para aplicações de inteligência artificial, abrindo caminho para processadores mais eficientes.
A empresa, que já produziu protótipos, planeja ter uma unidade de testes em uma fab piloto por volta de 2029. A rodada de investimento foi conduzida pela Atomico, contando também com aportes do fundo de venture capital da Microsoft, M12, entre outros investidores. A Lace apresentou suas pesquisas em uma conferência científica de litografia em fevereiro.
Essa inovação promete ampliar o roteiro tecnológico do setor, oferecendo uma alternativa à litografia convencional e potencialmente redefinindo os limites da miniaturização dos semicondutores.
Via InfoMoney
